上海微电子已成功生产光刻机吗？国内这一领域的水平如何？
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上海微电子成功生产光刻机吗？这个领域的国内水平是多少？
问题的核心是上海微电子成功生产光刻机吗？国内这一领域的水平是多少？首先，上海微电子可以生产光刻机并不是一个惊人的秘密，因为他早在2002年就成立了，很多人可能没有听说过，原因是过程相对落后，所以不知道，因为与目前的手机处理器过程相比，他可以生产90nm技术，真的不够看，但在中国确实是顶级存在。
以前国内做光刻机的厂家很多，但大部分还是在130nm甚至280nm左右。上海微电子是发展良好、工艺响度高的厂家。从全球市场来看，中国的光刻机工艺并不落后，也不太强。
一方面，真正制造光刻机的国家并不多。在之前的市场上，荷兰的A *** L，以及日本的佳能、尼康等。A *** L的成功来自于他吸收了各行各业的精英。如果他想使用它，他必须投资股票。同时，他使用的技术，如来自美国的测量设备和光源、来自德国的镜头和精密仪器、来自瑞典的轴承等。他们都是行业的领导者。这就是为什么他现在发展得很强大。
日本尼康和佳能确实是更好的，因为日本本身有很强的精密电子技术。此外，光刻机所需的镜头和光源对于佳能和尼康来说并不难，但现在佳能和尼康已经退出了光刻机市场，原因是没有市场，高不低，虽然不错，但与A *** L相比差距很大，所以销量很低，光刻机本身的年生产数量确实有限。此外，设备价格相对较高。如果没有订单或订单较少，这确实意味着它只能被淘汰。所以说到现在，做光刻机的国家屈指可数。
另一方面，也是因为我们刚才说的，现在光刻机市场基本上被A *** L垄断了，所以竞争对手很少。另一方面，根据最新报道，上海微电子28nm工艺即将到来。虽然没有权威的来源，但它也增加了我们的信心。毕竟，这是一个很大的飞跃，因为光刻机的研发实际上是分阶段进行的。理论上，90nm应该是60nm、45nm、40nm，接下来是28nm，这次上海微电子直接从90nm到28nm，其实力确实可见一斑。假如28nm研发成功量产，我们的光刻机技术确实在世界上站稳了脚跟。
光刻机的工艺确实很困难。例如，大约有10万个零件，需要系统协同工作，但我们正在慢慢解决最重要的方面。例如，28nm工艺的背后实际上是我们的企业，包括北京科益虹光源系统、国望光学镜头、华卓精科浸入式双工作台、浙江启尔机电浸入式系统等。
我们的顶级差距还是比较大的。现在A *** L最多可以生产5nm工艺，在产品方面，比如苹果12上的A14处理器，华为麒麟处理器9000系列都是5nm工艺，即使我的上海微电子开始量产28nm，还有很长的路要走，比如16nm/14nm、10nm、7nm，包括EUV极紫外雕刻技术，目前真的很难解决。
总结和观点：
首先，中国很久以前就可以使用声场光刻机了，但由于工艺上的差距，它不能用于我们日常使用的电子产品。另一方面，光刻机的技术要求确实很高。同时，由于《瓦森纳协定》规定高端设备或尖端技术对中国进行出口控制或技术封锁，我们只能进行自主研发，因此与A *** L有点不同，
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