荷兰光刻机是由亨利·范德韦克在1948年发明的。
1959年，世界上之一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制了世界上之一个适用单结构硅晶片。
1960年代，仙童提出了CMOSIC制造工艺，之一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上之一台2英寸集成电路生产线，美国GCA公司开发出了光学图形发生器和分布重复精缩机。
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度更高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩模图形到硅衬底图形之间的转移，集成电路在 *** 过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
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